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测温仪 CellaCrystal PX 44

文章描述

CellaCrystal PX 44是为硅和碳化硅晶体生产中的光学温度测量而开发的。校准特别适合于生长过程。由于混合信号评估在整个测量范围内具有< 0.1 K的恒定高分辨率,以及恒定光传感器技术带来的非常高的长期稳定性,该设备满足了对必要的测量精度的高要求。

专题报道:
  • 测量范围 750 至 3000 °C
  • PX 44 AF 4 用于硅晶体生产的特殊校准
  • PX 44 AF 7 用于碳化硅生产的特殊校准
  • 高计量分辨率的混合信号评估
  • 高长期由于自热极小,因此具有稳定性
  • 可聚焦光学器件,可精确调整测量距离
  • 标准:IO-Link 接口和模拟输出



测温仪 CellaCrystal PX 44
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版本 CellaCrystal PX 44 AF 4 
版本 CellaCrystal PX 40 AF 7 
测温范围 750 - 2400 °C 
测温范围 850 - 3000 °C 
焦点距离 0,4 m - ∞ 
焦点距离 0,4 m - ∞ 
测量区域的形状 圆形 
距离系数 150 : 1 
距离系数 150 : 1 
镜头 PZ 20.01 
镜头 PZ 20.01 
测量原理 双色 
瞄准方式 目镜瞄准 
瞄准方式 激光引导光 
瞄准方式 摄像机