半導体製造
プロセス温度は、半導体製造において非常に重要な要素です。
ウェハーの処理では、欠陥を防ぐために特定の温度範囲を維持する必要があります。
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ウェハーの処理では、欠陥を防ぐために特定の温度範囲を維持する必要があります。
